Aplicaciones
Producción y depósito de nanopartículas de materiales conductores, semiconductores o aislantes como Au, Ag, Pt, Cu, C, Si o SiC, sobre una amplia variedad de sustratos, tanto a escala de laboratorio como industrial.
Necesidades del mercado
Uno de los principales problemas de la pulverización catódica por magnetrón, como técnica comúnmente usada para la producción y depósito de nanopartículas, es que la utilización del blanco es de apenas un 10%, debido al confinamiento del plasma que causa una erosión profunda y localizada del blanco (racetrack), acortando su vida útil y reduciendo la estabilidad del flujo de nanopartículas.
Solución propuesta
El nuevo dispositivo consta de dos cámaras. La primera cámara, donde se generan las nanopartículas, combina un magnetrón FFE y una zona de agregación. Esta configuración permite una producción estable en el tiempo del haz de nanopartículas, mejorando el uso de la superficie del blanco.
La estabilidad y la velocidad de producción del flujo de nanopartículas mejoran gracias a la inyección de un gas secundario, además del gas de pulverización. La segunda cámara está configurada para la introducción de sustratos sobre los cuales se depositan las nanopartículas.
Ventajas competitivas
- El consumo en peso del blanco es mayor con respecto a la pulverización catódica por magnetrón convencional.
- El desgaste del blanco es mucho más uniforme, evitando la formación del racetrack.
- Mayor vida útil del blanco y mayor uso efectivo de su superficie.
- Mayor estabilidad del flujo de nanopartículas durante largos períodos de producción.
- En el magnetrón FFE, el blanco ha sido usado durante más de 12 horas a una potencia media de 90 W sin necesidad de ser reemplazado.
- Flexibilidad en materiales de nanopartículas y sustratos.